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低場(chǎng)核磁共振法測(cè)定電子漿料的分散性
低場(chǎng)核磁共振法測(cè)定電子漿料的分散性 來(lái)源:本站 時(shí)間:2023-02-28 00:00:00

1.1 實(shí)驗(yàn)材料

銅粉;松油醇,叔丁基卡必醇醋酸酯,乙基纖維素,其他試劑均為分析純。


1.2 實(shí)驗(yàn)儀器

三輥研磨機(jī)(德國(guó)EXAKT);低溫納米材料制備分散機(jī)(廣州聚能納米生物科技股份有限公司,JN-02FS);行星重力攪拌機(jī)(綿陽(yáng)世諾科技有限公司,RM300S);電動(dòng)攪拌機(jī)(德國(guó)IAK);Acorn Area 低場(chǎng)核磁共振儀(XiGo Nanotools Inc)。


1.3 實(shí)驗(yàn)過(guò)程

1.3.1 有機(jī)載體制備

在燒瓶中加入15%~30%的乙基纖維素樹(shù)脂,溶于70%~85%有機(jī)溶劑(松油醇、丁基卡必醇醋酸酯)在80℃的油浴中攪拌溶解24 h,用200目濾布過(guò)濾,轉(zhuǎn)移后靜置24h,備用。



1.3.2 分散工藝

(1)采用低溫納米材料制備分散機(jī)對(duì)混合好的原始漿料分別進(jìn)行納米均質(zhì)分散,分散溫度為20±1℃,分散壓力為1500bar。

(2)采用行星重力攪拌機(jī)對(duì)混合好的原始漿料進(jìn)行行星重力分散,行星重力分散,程序設(shè)置如下:階段1:公轉(zhuǎn)400rpm,60s;階段2:自轉(zhuǎn)1200rpm,60s;階段3:公轉(zhuǎn)900rpm,60s。

(3)采用電動(dòng)攪拌機(jī)對(duì)混合好的原始漿料進(jìn)行剪切攪拌分散,剪切攪拌分散程序設(shè)置如下:用電動(dòng)攪拌機(jī)以300r/min速度攪拌10min 至均勻;然后以800r/min 速度攪拌50min;最后以500r/min 速度攪拌10min。


1.3.3 漿料制備

按一定比例依次加入金屬粉74%、玻璃粉5%、有機(jī)載體20%、助劑1%。按照1.3.2制定的分散工藝進(jìn)行混合分散,將分散好的漿料用三輥研磨機(jī)進(jìn)行研磨分散;選用400目不銹鋼濾網(wǎng)對(duì)漿料進(jìn)行過(guò)濾,將制得的均勻漿料轉(zhuǎn)移至樣品罐中,密封保存。


1.3.4 漿料分散性的測(cè)試

用滴管分別吸取已制備好漿料0.5mL,裝到測(cè)試的試管容器中,將石英試管插入儀器中,采用低場(chǎng)核磁共振儀進(jìn)行測(cè)試,得到漿料的弛豫時(shí)間。低場(chǎng)核磁共振儀的磁場(chǎng)強(qiáng)度為0.3T,頻率為13MHZ,溫度為25℃。



2.1 不同分散工藝對(duì)分散均勻性的影響

納米高壓均質(zhì)分散機(jī)的原理是柱塞泵通過(guò)不斷的往復(fù)運(yùn)動(dòng),將漿料吸入高壓部件通道中,柱塞可調(diào)節(jié)壓力的大小。漿料在高壓下流過(guò)縫隙時(shí),液滴首先被延伸,后通過(guò)閥體時(shí)的湍流作用而將其剪切拉碎。從閥縫中高速?zèng)_出的液流撞上擋圈,產(chǎn)生了高速的撞擊作用。同時(shí),壓力迅速下降產(chǎn)生巨大的爆破力,瞬時(shí)引起空穴現(xiàn)象,釋放強(qiáng)烈的能量和高頻振動(dòng),使顆?;蛞旱纹扑?,從而達(dá)到液態(tài)樣品均質(zhì)、粉碎和乳化的效果。

行星重力分散機(jī)又稱(chēng)行星離心式混合器,是一種可以不使用攪拌器葉片的情況下攪拌材料和同時(shí)消除氣泡的設(shè)備。公轉(zhuǎn)主要是采用離心力使材料遠(yuǎn)離中心,自轉(zhuǎn)是通過(guò)容器的旋轉(zhuǎn)使材料產(chǎn)生流動(dòng),材料同時(shí)具有旋轉(zhuǎn)和剪切,旋轉(zhuǎn)軸采用45度設(shè)計(jì),可產(chǎn)生三維運(yùn)動(dòng)。漿料表面與容器壁之間的流速變化,導(dǎo)致流動(dòng)復(fù)雜,剪切力大。這種剪切力使液滴和顆粒更小,并增加了他們的分散性,與此同時(shí),氣泡也會(huì)分散的得好。

剪切攪拌分散機(jī)主要是通過(guò)剪切頭實(shí)現(xiàn)漿料的分散,它的剪切頭由轉(zhuǎn)子和定子組成,轉(zhuǎn)子與定子相互嚙合。轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)大的離心力形成強(qiáng)負(fù)壓區(qū),漿料被吸入工作腔,在定、轉(zhuǎn)子間隙內(nèi)受到剪切和離心、撞擊和湍流等綜合作用,而產(chǎn)生分裂液滴的張力,液體離開(kāi)定子小孔后壓力又回升,由此產(chǎn)生了空穴效應(yīng),剪切頭高速旋轉(zhuǎn),對(duì)漿料進(jìn)行剪切、分散和撞擊,漿料就會(huì)變得更加均勻,以達(dá)到分散目的。

按照1.3.2分別采用了三種不同分散工藝:納米均質(zhì)分散、行星重力分散、剪切攪拌分散制備電子漿料,按照1.3.4進(jìn)行漿料分散性的測(cè)試,弛豫時(shí)間圖1所示。




























從圖1 中的弛豫時(shí)間結(jié)果來(lái)看,三種不同混合分散工藝,采用納米均質(zhì)分散工藝分散效果最好,行星重力和剪切攪拌分散工藝的分散效果接近一致,在混合分散時(shí)采用納米均質(zhì)分散工藝對(duì)漿料進(jìn)行分散,分散效果最好,漿料分散的最均勻。


2.2 研磨時(shí)間對(duì)分散均勻性影響

三輥研磨機(jī)是對(duì)物料進(jìn)行有效研磨和分散的設(shè)備,對(duì)漿料產(chǎn)品的品質(zhì)提升具有不可替代的作用,精密的設(shè)計(jì)和嚴(yán)格要求的零件使得設(shè)備能夠持續(xù)穩(wěn)定的進(jìn)行納米級(jí)別的研磨和分散。通過(guò)水平的三根輥筒的表面相互擠壓及不同速度的摩擦而達(dá)到研磨效果。漿料在中輥和后輥間加入,由于中輥和后輥的相反異步旋轉(zhuǎn)而引起漿料的急劇摩擦反動(dòng),強(qiáng)大的剪切力破壞了漿料顆粒內(nèi)分子之間的結(jié)構(gòu)應(yīng)力,在經(jīng)邊前兩輥的二次研磨,從而達(dá)到迅速的粉碎和分散,進(jìn)而使?jié){料高度均勻混合分散。

采用低溫納米材料制備分散機(jī)對(duì)原始漿料納米均質(zhì)分散,將分散好的漿料進(jìn)行三輥研磨,研磨時(shí)間分別為15分鐘、30分鐘、45分鐘,將研磨后的漿料進(jìn)行過(guò)濾,制備好的電子漿料按照1.3.4進(jìn)行漿料分散性的測(cè)試,弛豫時(shí)間如圖2所示。



從圖2中的弛豫時(shí)間結(jié)果來(lái)看,當(dāng)采用納米均質(zhì)分散工藝時(shí),三輥研磨時(shí)間30 分鐘和45 分鐘時(shí),結(jié)果接近。由此可見(jiàn),采用納米均質(zhì)分散工藝時(shí),研磨時(shí)間為30 分鐘時(shí),漿料就能得到很好的分散均勻性了。三輥研磨是對(duì)漿料成品的最后分散步驟,對(duì)分散均勻性影響較大,分散時(shí)間短,漿料分散效果不佳,粗顆粒較多,在制備成電子元器件后,對(duì)其性能影響較大,會(huì)造成電容被擊穿而引起失效。分散時(shí)間過(guò)長(zhǎng),由于漿料中有機(jī)溶劑容易揮發(fā),造成漿料粘度過(guò)大,不適合后期器件的制備,同時(shí)也影響生產(chǎn)效率。通過(guò)對(duì)研磨時(shí)間進(jìn)行分析和研究,確定了合適的研磨時(shí)間及工藝,具有可行性及參考性,同時(shí)也保證了漿料分散的均勻性。


2.3 分散劑對(duì)分散均勻性影響

分散劑是一種在分子內(nèi)同時(shí)具有親油和親水性?xún)煞N相反性質(zhì)的界面活性劑,可均勻分散那些難溶于溶劑中的無(wú)機(jī)、有機(jī)固體及液體顆粒,同時(shí)也能防止顆粒的沉降和凝聚,進(jìn)而形成穩(wěn)定的漿料。分散劑的作用是通過(guò)對(duì)漿料中的超細(xì)顆粒表面進(jìn)行潤(rùn)濕,降低顆粒間的表面能,同時(shí)包覆一層包覆層,可以很好的起到均勻分散作用。

分散劑的添加顯著增強(qiáng)了顆粒間的相互排斥作用,為顆粒的良好分散營(yíng)造出所需要的物理化學(xué)條件。排斥作用主要通過(guò)以下三種方式實(shí)現(xiàn):一是增大顆粒表面電位的絕對(duì)值,以提高顆粒間的靜電排斥任用;二是通過(guò)高分子分散劑在顆粒表面形成吸附層之間的空間位阻效應(yīng),使顆粒間產(chǎn)生很強(qiáng)的空間位阻排斥力;三是調(diào)控顆粒表面極性,增強(qiáng)分散介質(zhì)對(duì)顆粒的潤(rùn)濕性,在滿(mǎn)足潤(rùn)濕原則的同時(shí),增強(qiáng)表面溶劑化膜,提高它的表面結(jié)構(gòu)化程度,使結(jié)構(gòu)化排斥力增大。

電子漿料中使用的一般是高分子分散劑,主要是利用它在顆粒表面的吸附膜的強(qiáng)大空間位阻排斥效應(yīng),高分子分散劑的致密吸附膜對(duì)顆粒的團(tuán)聚、分散狀態(tài)有非常顯著的作用。常用的有機(jī)高分子鏈上均勻分布著大量的極性基團(tuán),由此導(dǎo)致顆粒表面的親水化,增強(qiáng)表面對(duì)極性液體的潤(rùn)濕性,有利于顆粒分散。

分別添加了相同含量的BYK、TEGO、BASF三種不同分散劑,配制成原始漿料。低溫納米材料制備分散機(jī)對(duì)原始漿料進(jìn)行納米均質(zhì)分散,將分散好的漿料進(jìn)行三輥研磨和過(guò)濾,制備好的電子漿料按照1.3.4進(jìn)行漿料分散性的測(cè)試,弛豫時(shí)間如圖3所示。



從上圖中的弛豫時(shí)間結(jié)果來(lái)看,當(dāng)采用納米均質(zhì)分散工藝時(shí),三輥研磨時(shí)間30分鐘時(shí),分散劑為BYK時(shí),漿料的分散均勻性最好。而采用TEGO和BASF分散劑配制的漿料分散均勻性比BYK差,故采用BYK為漿料的分散劑。


2.4 分散劑含量對(duì)分散均勻性影響

分散劑的含量對(duì)漿料的均勻性、流變特性和穩(wěn)定性有著明顯的影響。當(dāng)分散劑含量過(guò)低時(shí),漿料處于部分解凝狀態(tài),顆粒表面具有較低的電荷密度,顆粒間的排斥作用較小,而范德華力作用較強(qiáng),粘度較大,粘料體系的穩(wěn)定性差。隨著分散劑含量的增加,使分散劑分子在顆粒表面吸附漸漸趨于飽和,顆粒表面電荷密度增加,顆粒間的排斥作用也相應(yīng)增強(qiáng),漿料逐漸達(dá)到完全解凝狀態(tài),漿料的分散性好,此時(shí)漿料的粘度變小,穩(wěn)定性好不容易發(fā)生沉降。當(dāng)分散劑含量過(guò)高時(shí),顆粒可供分散劑吸附的面積有限,當(dāng)分散劑在顆粒表面達(dá)到飽和吸附后,多余未吸附的分散劑鏈會(huì)相互橋聯(lián)形成橋梁作用,使原本分散的顆粒再次團(tuán)聚,從而產(chǎn)生絮凝沉降現(xiàn)象,導(dǎo)致漿料的流動(dòng)性、分散性和穩(wěn)定性變差,降低了原有漿料的各項(xiàng)性能,因此在使用分散劑提升漿料的分散性及穩(wěn)定性的時(shí)候,需要測(cè)試出合適的含量配比,才能制備出分散性好且穩(wěn)定的漿料。


采用BYK為分散劑,含量分別為0.3%、0.6%、0.9%,配制成原始漿料。低溫納米材料制備分散機(jī)對(duì)原始漿料納米均質(zhì)分散,將分散好的漿料進(jìn)行三輥研磨和過(guò)濾,制備好的電子漿料按照1.3.4 進(jìn)行漿料分散性的測(cè)試,弛豫時(shí)間如圖4所示。從上圖中的弛豫時(shí)間結(jié)果來(lái)看,當(dāng)采用納米均質(zhì)分散工藝時(shí),三輥研磨時(shí)間30分鐘時(shí),分散劑為BYK,含量為0.6%時(shí),漿料的分散均勻性最好。而當(dāng)分散劑BYK含量過(guò)高或者過(guò)低時(shí),漿料分散均勻性都不好,故選擇分散劑BYK 含量為0.6%配制漿料。高分子分散劑的分散和團(tuán)聚作用是可以轉(zhuǎn)化的,所以分散劑含量并非越多越好,要根據(jù)漿料固含量及顆粒尺寸進(jìn)行最佳含量范圍的確定。


(1) 測(cè)定三種不同分散工藝制備的電子漿料的分散均勻性,納米均質(zhì)分散工藝的弛豫時(shí)間最短,分散效果最好。

(2) 測(cè)定三種不同研磨時(shí)間工藝制備的電子漿料的分散均勻性,研磨時(shí)間30分鐘和45分鐘時(shí),結(jié)果相接近,選擇研磨時(shí)間為30分鐘。

(3) 測(cè)定三種不同類(lèi)型及含量的分散劑制備的電子漿料的分散均勻性,分散劑為BYK,含量為0.6%時(shí),漿料的分散均勻性最好。


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